顯微光譜分析又稱微區光譜分析,是通過光學顯微鏡等輔助光學設備,采集微小區域的光信號進行樣品光譜分析的一種方法。
顯xian微wei光guang譜pu分fen析xi是shi對dui比bi普pu通tong光guang譜pu分fen析xi而er言yan。通tong常chang普pu通tong光guang譜pu分fen析xi是shi指zhi普pu通tong光guang纖xian光guang譜pu儀yi通tong過guo光guang纖xian將jiang光guang信xin號hao導dao入ru光guang譜pu之zhi中zhong。但dan是shi由you於yu光guang纖xian收shou集ji的de是shi發fa散san光guang(一般光譜光纖數值孔徑為0.22),因此普通光纖光譜儀僅能采集較大空間的光信號。測試信號並不理想。
houlai,renmentongguoguangxuexianweijingpeiheguangxianguangpuyijinxingyangpinkongjianfenbianfenxishideyangpindekongjianfenbianlvdedaoledadadetigao。weilehuodegenggaodefenbianlvyifangmianshiyaotigaoxianweijingdefenbianlv,lingwaiyifangmianshiyaotigaoguangxianguangpuyidexingnengheliangzhezhijiandepeihexingneng。
目(mu)前(qian)市(shi)場(chang)上(shang)光(guang)纖(xian)光(guang)譜(pu)儀(yi)種(zhong)類(lei)繁(fan)多(duo),選(xuan)擇(ze)一(yi)款(kuan)適(shi)合(he)的(de)光(guang)纖(xian)光(guang)譜(pu)儀(yi)至(zhi)關(guan)重(zhong)要(yao)。複(fu)享(xiang)光(guang)纖(xian)光(guang)譜(pu)儀(yi)提(ti)供(gong)的(de)設(she)備(bei)在(zai)市(shi)場(chang)上(shang)一(yi)直(zhi)在(zai)顯(xian)微(wei)光(guang)譜(pu)分(fen)析(xi)領(ling)域(yu)具(ju)有(you)良(liang)好(hao)的(de)口(kou)碑(bei)。如(ru)果(guo)您(nin)擁(yong)有(you)光(guang)學(xue)顯(xian)微(wei)鏡(jing),那(na)麼(me)進(jin)行(xing)顯(xian)微(wei)光(guang)譜(pu)分(fen)析(xi)最(zui)簡(jian)單(dan)的(de)方(fang)法(fa)就(jiu)是(shi)配(pei)備(bei)複(fu)享(xiang)光(guang)纖(xian)光(guang)譜(pu)儀(yi)的(de)專(zhuan)用(yong)顯(xian)微(wei)鏡(jing)-光guang纖xian適shi配pei器qi對dui譜pu儀yi和he顯xian微wei鏡jing進jin行xing整zheng合he同tong時shi配pei合he複fu享xiang光guang纖xian光guang譜pu儀yi開kai發fa的de定ding製zhi軟ruan件jian。然ran後hou,您nin就jiu能neng輕qing輕qing鬆song鬆song的de用yong顯xian微wei鏡jing和he整zheng合he好hao的de光guang纖xian光guang譜pu儀yi係xi統tong對dui樣yang品pin進jin行xing信xin號hao分fen析xi。
一般來說,如果您擁有50倍以上的物鏡,在不做光闌修飾的情況下,能夠做到25weimijianfangquyudexianweiguangpufenxi。dangran,fuxianghainenggouweinintigonggengjingxidexianweiguangpufenxi。tongguofuxiangguangxianguangpuyidezhuanlijishu,xianweixitongnengjiangguangpuyidekongjianfenbianlvtigaozhi5微米見方。
普通光譜分析和顯微光譜分析已經具有專利技術的光譜分析對比表
普通光譜分析顯微光譜分析複享專利的顯微光譜分析
空間分辨率能力典型1X1mm2最小25X25um2最小5X5um2
角分辨能力無無有,詳見R6產品介紹
最大光譜波段200-2500nm380-780nm320-1100nm
製絨過程:
製絨是將電池片表麵刻蝕或腐蝕成不規則的粗糙表麵。由於入射光在電池片表麵多次反射和折射、增(zeng)加(jia)了(le)光(guang)的(de)吸(xi)收(shou),提(ti)高(gao)了(le)電(dian)池(chi)片(pian)的(de)短(duan)路(lu)電(dian)流(liu)和(he)轉(zhuan)換(huan)效(xiao)率(lv)。此(ci)時(shi),可(ke)以(yi)利(li)用(yong)測(ce)量(liang)反(fan)射(she)率(lv)來(lai)衡(heng)量(liang)電(dian)池(chi)片(pian)的(de)製(zhi)絨(rong)效(xiao)果(guo)。一(yi)般(ban)來(lai)說(shuo),在(zai)製(zhi)絨(rong)完(wan)成(cheng)後(hou),電(dian)池(chi)片(pian)的(de)反(fan)射(she)率(lv)在(zai)35%左右。
清洗過程:
在(zai)製(zhi)絨(rong)過(guo)程(cheng)後(hou),需(xu)要(yao)對(dui)電(dian)池(chi)片(pian)表(biao)麵(mian)進(jin)行(xing)一(yi)般(ban)的(de)化(hua)學(xue)清(qing)洗(xi)。清(qing)洗(xi)後(hou)還(hai)要(yao)進(jin)行(xing)脫(tuo)水(shui)處(chu)理(li)。此(ci)時(shi),可(ke)以(yi)利(li)用(yong)測(ce)量(liang)反(fan)射(she)率(lv)來(lai)衡(heng)量(liang)電(dian)池(chi)片(pian)清(qing)洗(xi)效(xiao)果(guo)。
PECVD過程
為了進一步減少表麵反射,提高電池的轉換效率,需要沉積一層SiN(氮化矽)減反射膜。現在工業生產中常采用PECVD設備製備減反射膜。PECVD即ji等deng離li子zi體ti增zeng強qiang型xing化hua學xue氣qi相xiang沉chen積ji。它ta的de技ji術shu原yuan理li是shi利li用yong低di溫wen等deng離li子zi體ti做zuo能neng量liang源yuan,樣yang品pin置zhi於yu低di氣qi壓ya下xia輝hui光guang放fang電dian的de陰yin極ji上shang,利li用yong輝hui光guang放fang電dian使shi樣yang品pin升sheng溫wen到dao預yu定ding的de溫wen度du,然ran後hou通tong入ru適shi量liang的de反fan應ying氣qi體tiSiH4和NH3,氣(qi)體(ti)經(jing)一(yi)係(xi)列(lie)化(hua)學(xue)反(fan)應(ying)和(he)等(deng)離(li)子(zi)體(ti)反(fan)應(ying),在(zai)樣(yang)品(pin)表(biao)麵(mian)形(xing)成(cheng)固(gu)態(tai)薄(bo)膜(mo),即(ji)氮(dan)化(hua)矽(gui)薄(bo)膜(mo)。在(zai)反(fan)應(ying)過(guo)程(cheng)中(zhong),可(ke)以(yi)使(shi)用(yong)高(gao)分(fen)辨(bian)的(de)等(deng)離(li)子(zi)體(ti)監(jian)控(kong)儀(yi)進(jin)行(xing)等(deng)離(li)子(zi)體(ti)反(fan)應(ying)的(de)原(yuan)位(wei)監(jian)控(kong)。一(yi)般(ban)情(qing)況(kuang)下(xia),使(shi)用(yong)PECVD方法沉積的薄膜厚度在70nm左右。完成PECVD鍍膜後,需要使用橢偏儀和反射率儀綜合衡量電池片的膜厚和反射率
封裝過程
在zai組zu件jian的de表biao麵mian需xu要yao封feng裝zhuang上shang玻bo璃li,起qi到dao保bao護hu電dian池chi組zu件jian的de作zuo用yong。現xian在zai一yi般ban使shi用yong增zeng透tou型xing的de壓ya花hua玻bo璃li進jin行xing封feng裝zhuang。壓ya花hua玻bo璃li的de透tou過guo率lv將jiang直zhi接jie影ying響xiang電dian池chi組zu件jian的de發fa電dian效xiao率lv。因yin此ci,需xu要yao使shi用yong壓ya花hua玻bo璃li透tou過guo率lv儀yi對dui封feng裝zhuang的de壓ya花hua玻bo璃li透tou過guo率lv進jin行xing檢jian測ce。
測試過程
為wei了le衡heng量liang電dian池chi組zu件jian的de發fa電dian效xiao率lv,需xu要yao使shi用yong太tai陽yang光guang模mo擬ni器qi照zhao射she進jin行xing發fa電dian效xiao率lv的de測ce試shi。太tai陽yang光guang模mo擬ni器qi一yi般ban使shi用yong特te殊shu的de脈mai衝chong氙xian燈deng光guang源yuan。由you於yu脈mai衝chong氙xian燈deng光guang源yuan具ju有you使shi用yong壽shou命ming,因yin此ci,為wei了le獲huo取qu準zhun確que的de效xiao率lv數shu據ju,需xu要yao對dui太tai陽yang光guang模mo擬ni器qi的de輻fu射she情qing況kuang進jin行xing檢jian測ce。
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